近日，仪器科学与光电工程学院研究团队发表在光学领域著名期刊《Optics Express》的研究论文被国际著名工程学科技机构“Advances In Engineering”（简称AIE）遴选为关键科学文章（key scientific article），并以“Large-range lithography misalignment sensing with sub-2-nm accuracy through automatic dual-frequency Moiré fringes analysis”为题在电子工程（Electrical Engineering）栏目进行专题报道。论文第一作者是我校博士研究生许非凡，指导老师夏豪杰教授为通讯作者。

AIE专题报道图片

随着半导体工艺不断发展，掩膜与晶圆在多重曝光和叠层工艺中的对准精度要求愈加严苛，传统基于莫尔条纹的对准方法存在测量量程有限、相位解算易受频谱泄漏和周期模糊影响等瓶颈，难以同时满足大范围、高精度与高稳定性的需求。针对上述技术挑战，研究团队提出了复合差分光栅标记与自动差值查找表（ALDT）算法相结合的创新方案，利用双频莫尔条纹的周期放大效应及差值区间唯一映射，实现大量程、快速且无歧义的错位解析。围绕纳米光刻对准技术，团队采用无需粗对准标记的中心对称二维光栅对准标记方法，实现了横向、纵向与圆周三自由度对准，提出的二维卷积窗函数有效抑制频谱泄漏，显著提升相位解析的鲁棒性和精度，发表了系列研究成果[OPT LASER ENG 2023, 171: 107815；MECH SYST SIGNAL PR 2024, 208: 111052; MECH SYST SIGNAL PR 2025, 230: 112590; MEASUREMENT 2025, 242: 116196; OPT EXPRESS 2025, 33: 23960-23979]。该方向研究突破了传统莫尔对准技术在量程与精度上的限制，为纳米压印光刻、表面等离子体光刻等新型光刻技术提供关键技术支撑。

AIE主要面向工程科技领域的科学家、工程师及大学师生，拥有广泛的读者群和较大的影响力。AIE每周由其委员会筛选出20篇左右的优秀论文进行特别报道，研究方向包括材料、化学、电气、机械、纳米技术、土木以及通用工程（航空航天、通信、计算机），入选率仅为上述领域论文总数的1‰以内。目前，AIE每月的阅读量达80万次，被世界排名前40位的工程公司和全球主要研究机构所链接，用于跟踪重要的工程科技进展。

该项研究成果得到国家重点研发计划和安徽省科技重大专项项目的资助。

Advances in Engineering（AIE）报道原文链接：https://advanceseng.com/large-range-lithography-misalignment-sensing-sub-2-nm-accuracy-automatic-dual-frequency-moire-fringes-analysis/

相关文章链接：https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-33-11-23960

（许非凡、陈丽娟/文 李军鹏/审核）

责任编辑：雷磊